Quartz Crystal Microbalance


* BioLogic

▣ 전기도금/부식, 고체/액체 계면 상호작용 등의 연구를 위한 단일 채널 QCM

▣ 온도 및 흐름 조절 가능(옵션)

▣ 최대 7개의 overtone 동시 측정 가능

▣ 특허받은 Quick-lock 구조의 셀은 설정이 용이하며, 실험의 재현성을 높임

In-batch EQCM

Flow EQCM

Hermetic Li research

in batch EQCM

In-batch QCM

Flow QCM

In-batch probe QCM

EQCM Cells

DescriptionCompatible sensorCat. No.Options

Aqueous

reference electrode

Non-Aqueous

reference electrode

Counter electrode
In-batch EQCM14 mm sensorAW-BEQ01QA-012167A-013848A-002234
Air-tight typeAW-BEQATQ
1 inch sensorAW-BEQ02Q
Flow EQCM14 mm sensorAW-FEQ01QA-012168A-013849-
Hermetic Li research in batchAW-BEQLIQ-

※ 전극은 별도로 구매하셔야 합니다.

※ Flow EQCM cells : Pt plate counter electrode is integrated in the lid of the cell.

QCM Cells

DescriptionCompatible sensorCat. No.
In-batch QCM
14 mm sensor
AW-BQ01Q
1 inch sensor
AW-BQ02Q
HFF sensor
AW-BQ01HQ
Flow QCM
14 mm sensor
AW-FQ01Q
HFF sensor
AW-FQ01HQ
In-batch probe
14 mm sensor
AW-PEQ11Q



Type
Substrate
Material
Resonant frequency / MHz
Finish
Qty.
Cat. No.
14 mm WRAPPED
TiAu
5Polished
10AW-R5AU11P
Rough
AW-R5AU11
CrPolished
AW-R5AU10P
SiO2 over AuAW-R5SIO2P
-AlAW-R5ALP
-CuAW-R5CUP
-FeAW-R5FEP
TiAu10RoughAW-R10AU11
Polished
AW-R10AU11P
-PtAW-R10PT10P
-CAW-R10C10P
CrAuAW-R10AU10P
1 inchTiAu5Polished
5AW-R5AU21P
CrAW-R5AU20P
-PtAW-R5PT20P
TiAu9Polished
AW-R9AU21P
RoughAW-R9AU21
CrAW-R9AU20
Polished
AW-R9AU20P
HFF-QCM
CrAu50-5AW-R50AU01H
100AW-R100AU01H
150AW-R150AU01H

Quartz Crystal Microbalance


* EC-Frontier

▣ 수정의 공진주파수 특성을 활용한 샘플 분석 셀

▣ 측면형 모델은 용액 교반 가능

▣ QCA922A(SEIKO)와 연계 사용 가능

EQCM

ProductCat. No.
Standard
EQCM cell standard kit 바닥형 (20 mL)
VQ1-S
EQCM cell standard kit 측면형 (20 mL)
VQ2-S
2-/3- electrode
2-electrode EQCM cell standard kit (1 mL)
VQ3A-S
3-electrode EQCM cell standard kit (1 mL)
VQ3-S
Micro
Micro EQCM cell starter kit 바닥형 (1 mL)
VQ5-S
Micro EQCM cell starter kit 측면형 (1 mL)
VQ6-S
FlowEQCM flow cell standard kit
VQ4-S
Options
Adaptor holder for QCA922A
O-ring set
Silicone cap set
Gasket set
Blind cap
Tube & tube connector

수정진동자

SEIKO EG&G 의 수정진동자는 Au , Pt 뿐 아니라 Ag, Al, Cu, Mo, Ni, Si, SUS304, Ti 등의 금속재료와 탄소전극, ITO 투명 전극, SiO2 전극 등으로 구성되어 있습니다.

전극 표면처리
Standard finishing (Etching)

표면에 미세한 요철이 있어 Mirror surface finishing보다 표면적이 크기 때문에, 고분자 재료나 막 제조 등 흡착량이 더 많이 검출되는 실험에 적합합니다.

Mirror surface finishing(Polishing)

표면이 평평하면서 넓기 때문에 측정 후의 표면관찰에 적합합니다.
전극 형태
일체형임시 고정장치를 벗겨낸 후 사용할 수 있습니다.
분리형핀셋을 사용해서 크리스탈 조각이 lead선에 닿도록 해야 합니다. 측정 전에 전극 표면을 세척/변형할 필요가 있는 경우나, 측정 후 표면관찰에 적합합니다.
PropertySpecification
Resonant frequency9MHz
Cut typeAT Cut
Electrode materialAu, Pt, Ag, Al, C, Cu, ITO, Mo, Ni, Si, SiO2, SUS304, Ti 등
Electrode thickness300nm (sputtering on 100nm Ti-based)
Electrode diameterØ 5mm
ShapeSquare 7.9×7.9mm(49U) assembled / separated type
Crystal finishingStandard finishing (Etching) : 4,000 times finishing, Mirror surface finishing (Polishing) : Mirror surface finishing
Operating temperature-20°C ~ 70°C (Depending on the operating temperature during measurement)

     

※ ITO 투명전극은 Ti 기반의 전극을 사용하지 않습니다.

※ SiO2 전극은 별도로 문의해 주셔야 합니다.

※ 표면처리를 위한 Au 는 약 14nm Ti 위에 약 335nm 의 Au 을 부착하여 만듭니다.